三星电子12日在西安开建半导体工厂

三星电子将于12日在中国陕西省西安市开建半导体工厂，主要生产闪存（NAND Flash）产品。
这是三星电子继1996年在美国得克萨斯州的奥斯丁建设半导体工厂之后，在海外建设的第二家半导体工厂。

据悉，三星电子副会长权五铉、三星电子副社长（芯片事业部）全东守、三星集团大中华区总裁张元基等三星高层和中国政府的有关人士将出席明天的工厂开建仪式。

按计划，三星电子继在初期出资23亿美元后，将在今后数年间分阶段共投入70亿美元的资金。这是三星电子对海外半导体工厂的生产线进行的最大规模的一次投资。

据悉，西安工厂将于明年末开始试生产，从2014年开始投入10纳米级的NAND Flash产品量产。